產(chǎn)品中心
奧豪斯HB4AL四模塊干式金屬?。M控制)
奧豪斯HB4AL四模塊干式金屬浴(模擬控制),極其適合于培養(yǎng)、培養(yǎng)物活化、酶反應(yīng)、免疫分析、熔點/沸點和諸多其他實驗室流程。5個型號均選配可換模塊,適用于不同的樣品容器,如微型管、離心管、小瓶、微孔板和PCR管或試管。多用途具有可換模塊控制方式模擬控制溫度范圍高 75℃~100℃;低于環(huán)境5℃~100℃穩(wěn)定性± 2.5°C
奧豪斯HB4AL四模塊干式金屬浴(模擬控制)
產(chǎn)品介紹:
多功能干式加熱器非常適用于具有溫度穩(wěn)定要求的應(yīng)用。貼近式試管到區(qū)塊接觸點可大限度提高保暖性,提高加熱效率。大功率的恒溫模擬模塊屬于經(jīng)濟(jì)選項,同時數(shù)字型號可提供的溫度勻質(zhì)性與穩(wěn)定性,適用于需要重復(fù)結(jié)果的應(yīng)用。設(shè)備可容納40多個可交換模塊選件。
技術(shù)特點:
高功率、固定溫度干式金屬浴經(jīng)濟(jì)、靈活且緊湊。這些多用途金屬浴 極其適合于培養(yǎng)、培養(yǎng)物活化、酶反應(yīng)、免疫分析、熔點/沸點和諸多 其他實驗室流程。5個型號均選配可換模塊,適用于不同的樣品容器, 如微型管、離心管、小瓶、微孔板和PCR管或試管。每個模塊上帶有一 個用于測量模塊溫度的溫度計槽。氧化鋁模塊提供了的溫度穩(wěn)定 性和熱傳輸性。金屬浴需使用奧豪斯模塊加熱。
技術(shù)參數(shù):
| 型號 | HB4AL |
| 控制方式 | 模擬控制 |
| 溫度范圍 | 高 75℃~100℃; 低于環(huán)境5℃~100℃ |
| 穩(wěn)定性 | ± 2.5°C |
| *性 | 37°C時為± 0.4°C |
| 升溫時間 | 70 min |
| 尺寸 (高x長x寬) | 8.9 cm x 42.9 cm x 20.3 cm |
| 凈重 | 3.8 kg |
| 模塊數(shù)目 | 4 |
| 電源 (2) | 230V,1.35A,50/60Hz |
| 能耗 | 310 W |
| CE; TUV | |
| 工作環(huán)境 | 18°C – 33°C, 20% – 80%RH, 非冷凝 |
操作特點:
高功率、固定溫度干式金屬浴經(jīng)濟(jì)、靈活且緊湊。
微處理控制器:PID溫度控制可以實現(xiàn)溫度的精確控制。加熱速度快和 升溫準(zhǔn)確。
調(diào)節(jié)旋鈕:雙溫度控制旋鈕帶有1至10刻度,用于低溫和高溫調(diào)節(jié)。低 量程旋鈕適用于室溫至100°C的環(huán)境,大量程旋鈕適用于75°C至150°C的 環(huán)境。
注意:為了避免造成觸電危險,請勿用水水或其他液體加注槽或加熱模塊 開口。設(shè)備可用于干浴器/恒溫培養(yǎng)箱。
訂貨信息:
| 型號 | 產(chǎn)品描述 |
| HB4AL | 模擬控制四模塊干式金屬浴 |
| HB4DG | 數(shù)顯控制四模塊干式金屬浴 |
奧豪斯HB4AL四模塊干式金屬?。M控制)









