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產(chǎn)品中心

HB2DGHL數(shù)顯帶加熱蓋雙模塊干式金屬浴

  • 時   間:2019-05-16
  • 型   號:奧豪斯
  • 價   格:

奧豪斯HB2DGHL數(shù)顯帶加熱蓋雙模塊干式金屬浴,浴適用于需要可重復結(jié)果和出色溫度穩(wěn)定性的應用。這些金屬浴極其適合于恒溫培養(yǎng)、酶反應、免疫分析、核酸變性和諸多其他實驗流程。帶有鎖定旋鈕的內(nèi)置托桿支座,可容納外置溫度探頭組件。外置溫度探頭組件可檢測模塊或樣品實際溫度。金屬浴可容納一個微孔板塊或兩個單獨的可換模塊。。。
控制方式數(shù)顯控制
溫度范圍高于環(huán)境5℃~100℃

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奧豪斯HB2DGHL數(shù)顯帶加熱蓋雙模塊干式金屬浴

產(chǎn)品介紹:

  多用途干式金屬浴適用于對溫度穩(wěn)定性有嚴格要求的應用。試管與模塊壁緊密接觸可 以實現(xiàn)大的熱量保留,實現(xiàn)高效加熱。高功率、固定溫度,數(shù)顯控制型號提供 的溫度穩(wěn)定性和*性,適合需要可重復結(jié)果的應用。設備可選40多個恒溫模塊。

• 提供的溫度穩(wěn)定性和*性

• 帶加熱蓋型號可避免樣品出現(xiàn)冷凝現(xiàn)象并保持樣品體積不變

• 溫度可校準,允許用戶使用外部設備校準溫度

產(chǎn)品特點

  奧豪斯帶蓋數(shù)顯干式金屬浴適用于需要可重復結(jié)果和出色溫度穩(wěn)定性的 應用。這些金屬浴極其適合于恒溫培養(yǎng)、酶反應、免疫分析、核酸變 性和諸多其他實驗流程。帶有鎖定旋鈕的內(nèi)置托桿支座,可容納外置 溫度探頭組件。外置溫度探頭組件可檢測模塊或樣品實際溫度。金屬 浴可容納一個微孔板塊或兩個單獨的可換模塊,以適用于不同尺寸試 管、0.2 mL微型管到高度達85 mm的試管或燒瓶。每個模塊上帶有一個 用于測量模塊溫度的溫度計槽。試管和模塊壁緊密接觸實現(xiàn)高效加熱, 確保出色的溫度均勻性。加熱蓋有助于調(diào)節(jié)溫度、減少樣品出現(xiàn)冷凝 的現(xiàn)象。金屬浴需要使用奧豪斯加熱模塊運行。

操作特點:

微處理控制器:帶有外置RTD探頭的PID溫度控制裝置,使溫度穩(wěn)定性 的變化小于± 0.1°C,溫度均勻性變化也小于± 0.1°C,加熱快速、升溫準 確。允許用戶以± 0.1°C增量調(diào)節(jié)溫度。

LED顯示屏:觸摸式操作面板帶易于讀數(shù)、顯示溫度和時間的LED 屏。設備始終提供可重復和準確的結(jié)果,在實驗室工作臺即可輕松查 看。LED屏顯示設定值與實際溫度。定時器顯示已用時間,也可將其編 程為用戶定義的限值,當時間達到零時設備自動關閉。顯示屏將顯示上 一次使用的設置,即使斷電后也可顯示。

溫度校準模式:允許用戶使用外部設備校準溫度。

安全保障:

高溫指示器當溫度超過40°C時高溫指示燈自動點亮。

過溫保護當超過設定溫度10°C時,設備將自動停止加熱。

警報器在定時模式下,當時間達到零值或設備達到設定溫度時,警報 器將發(fā)出聲音警報。

注意:為了避免造成觸電危險,請勿用水或其他液體加注槽或加熱模塊 開口。設備可用于干浴器/恒溫培養(yǎng)箱。

技術參數(shù):

型號HB2DGHL
控制方式數(shù)顯控制
溫度范圍高于環(huán)境5℃~100℃
穩(wěn)定性± 0.2°C
*性37°C時為± 0.2°C
升溫時間50 min
校準溫度校準
尺寸 (高x長x寬)17.8 cm x 39.1 cm x 20.3 cm
凈重3.1 kg
模塊數(shù)目2
溫度過沖保護高于設定值10℃
電源 (2)230V,1.65A,50/60Hz
能耗400 W
 CE;  TUV
工作環(huán)境18°C – 33°C, 20% – 80%RH, 非冷凝

工作條件: 設備可在溫度18-33°C,相對濕度20%-80%的非冷凝條件下運行。

應用: 等溫孵育、酶反應、免疫測定、核酸變性及其他實驗室流程。

訂貨信息: 標配一個可拆3腳插頭,選件溫度探頭詳見下面彩頁,模塊單獨銷售。

訂貨信息:

型號產(chǎn)品描述
HB1AL模擬控制單模塊干式金屬浴
HB2AL模擬控制雙模塊干式金屬浴
HB4AL模擬控制四模塊干式金屬浴
HB6AL模擬控制六模塊干式金屬浴

奧豪斯HB2DGHL數(shù)顯帶加熱蓋雙模塊干式金屬浴

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